나노기술 및 정책 정보

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● 중국 유일 노광장비 개발사인 국영 상하이 마이크로일렉트로닉스(SMEE)가 네덜란드 ASML의 독점을 깰 수 있는 특허를 출원

● SMEE는 ‘극자외선(EUV) 방사선 발생기 및 리소그래피 장비’ 특허가 공개되었으며, 해당 특허 출원은 미국 제재에도 중국에서 극자외선 노광장비를 생산하는 것은 ASML의 독점을 깨는 것이라고 강조

● 현재 해당 특허는 중국 국가지식재산권국이 심사를 진행 중이며, 미국의 중국에 대한 규제가 중국의 자체 기술 발전을 이끌었다는 지적