미국 [미국/R&D]10만 배 이상 민감한 반도체 소재 품질을 측정
페이지 정보
- 발행기관
- ScienceDaily
- 저자
- 종류
- 나노기술분류
- 발행일
- 2019-04-09
- 조회
- 3,237
- 출처 URL
본문
텍사스대학교(University of Texas) 연구팀이 적은 양의 재료로 반도체 특성을 정확하게 측정할 수 있는 기법을 개발하여 개선된 성늘을 성공적으로 입증함. 연구팀은 소량의 물질을 특수 설계된 마이크로파 공명 회로에 넣어 광여기 전자(photoexcited electrons)의 수명을 정량화하는 방법을 고안함. 샘플은 공명기 내부에서 집중된 마이크로파 영역에 노출되며, 샘플에 빛이 맞으면 마이크로파 회로 신호가 바뀌고 이러한 회로 변화는 표준 오실로스코프로 판독할 수 있음. 기존 기술보다 훨씬 작은 야으로 재료의 특성을 측정할 수 있는 기술은 2차원, 마이크로, 나노 크기 물질의 발견과 연구를 가속화할 것으로 기대함. 본 연구 성과는 ‘Nature Communications’ 지에 게재됨
- 이전글[미국/R&D]새로운 2차원 소재의 개발을 가능하게 하는 '딥 러닝' 19.04.16
- 다음글[미국/R&D]그래핀에 의해 찌그러진 나노결정 모양을 예측하는 모델 개발 19.04.16