중국 원스텝 템플릿 유도법으로 리튬이온 커패시터 음극용 N-도핑 그래핀 나노층 제조
페이지 정보
- 발행기관
- 망이
- 저자
- 종류
- R&D
- 나노기술분류
- 나노에너지
- 발행일
- 2022-08-24
- 조회
- 1,043
- 출처 URL
본문
- 마신룽 교수(중국석유대) 연구팀은 원스텝 템플릿 유도법으로 폐타이어 열분해유(WTPO)를 탄소전구체로 활용한 N-도핑 그래핀 나노층(N-GNL)을 제조
- 전구체 g-C₃N₄의 자가분해에 의해 후속 정제 과정이 필요없이 직접 제조된 N-GNL은 고유한 층상 구조에 기반하여 용량 및 방전배율 측면에서 만족스러운 음극 기능을 제공
- 또한, N-GNL 음극 및 큐빅 다공성 탄소(CPC) 양극으로 제조된 N-GNL/CPC 리튬이온캐패시터(LIC)는 뛰어난 전기화학적 성능과 탁월한 내구성 제공
Carbon (2022.08.20.), N-doped graphene nanolayer originated from the one-step template-induction methodology as anode for high-performance Li-ion capacitor
- 이전글문부성 연구계획·평가분과회(제82회), 분야별 연구 개발 계획 등 발표 22.08.29
- 다음글반데르발스 물질 폴라리톤을 이용하여 나노 수준에서 빛에 대한 ‘제어’ 실현 22.08.29